100kV 电子束光刻机

电子束光刻机  (Electron Beam Lithography, EBL)  是一种利用高能电子束 在光刻胶表面进行精确描绘的半导体制造设备  其工作原理是通过电子光学系统将电子束聚焦成极细的束斑(可达纳米级)，并在计算机控制下按照预设的图形路径扫描光刻胶表面   电子束与光刻胶相互作用后 ，改变光刻胶的化学性质形成所需的图形  经过显影、刻蚀等后续工艺 ，这些图形最终转化为芯片上的微细结构