图形发生器（Pattern Generator）是一种电子设备，通过电子计算机控制，精确生成复杂的图形。这些图形可以是半导体制造或微纳加工设计的各种电路图或者微机电图形，主要用于制作半导体大规模集成电路的掩膜版，或者晶圆直接曝光。

电子束光刻机 (Electron Beam Lithography, EBL) 是一种利用高能电子束在光刻胶表面进行精确描绘的半导体制造设备。其工作原理是通过电子光学系统将电子束聚焦成极细的束斑(可达纳米级)，并在计算机控制下按照预设的图形路径扫描光刻胶表面。电子束与光刻胶相互作用后 ，改变光刻胶的化学性质形成所需的图形 经过显影、刻蚀等后续工艺 ，这些图形最终转化为芯片上的微细结构 。